金相顯微鏡對(duì)環(huán)境的要求-磁場(chǎng)

    金相顯微鏡對(duì)磁場(chǎng)的要求一般是不大于數(shù)十到數(shù)百納特斯拉。當(dāng)四周磁場(chǎng)強(qiáng)度超越規(guī)范時(shí)，可以用磁屏障（EMI Shielding）或采用自動(dòng)式消磁器來(lái)解決問題。

　　依據(jù)頻率的分別，一般把電磁場(chǎng)分為直流（0赫茲）電磁場(chǎng)、低頻（數(shù)十到數(shù)百赫茲）電磁場(chǎng)和中高頻電磁場(chǎng)。由于高于數(shù)百赫茲的中高頻電磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)很低，對(duì)金相顯微鏡的影響極小，直流電磁場(chǎng)不影響圖像質(zhì)量，程度偏向的直流電磁場(chǎng)只會(huì)使圖像有極細(xì)小的整幅偏移，毫伏級(jí)的垂直偏向直流電磁攪擾更是不會(huì)有任何關(guān)擾，所以關(guān)于金相顯微鏡一般只考慮數(shù)十赫茲的低頻電磁攪擾。

　　依據(jù)電磁波傳輸?shù)脑?，在頻率很低的時(shí)候，趨膚效應(yīng)、磁滯損耗以及反射損耗都很小，低頻電磁波的能量首要由磁場(chǎng)能量組成。所以這時(shí)所要屏障的應(yīng)該是電磁波的磁場(chǎng)重量。

　　屏障低頻電磁攪擾的原理是磁路并聯(lián)旁路分流。經(jīng)過運(yùn)用導(dǎo)磁材料（如低碳鋼、硅鋼等）制造的屏障體來(lái)供應(yīng)磁旁路，降低屏障體內(nèi)部的磁通密度。同時(shí)盡量增大渦流損耗，使局部能量轉(zhuǎn)化為熱能耗費(fèi)掉。屏障資料越厚則磁通面積越大、磁阻越小屏障結(jié)果越好。渦流損耗越大，轉(zhuǎn)換為熱能而損耗的磁能越多，屏障結(jié)果越好。導(dǎo)電率高而導(dǎo)磁率低的材料（如銅、鋁等）對(duì)電磁波的磁場(chǎng)重量沒有屏障效果。

　　實(shí)驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)表明，導(dǎo)磁率高的材料（如硅鋼、玻莫合金等）在制造體積達(dá)數(shù)十立方米的金相顯微鏡磁屏障室時(shí)結(jié)果很差。冷軋硅鋼板的均勻?qū)Т怕始s為20000，通常低炭鋼板導(dǎo)磁率約為4000，似乎冷軋硅鋼板的低頻電磁屏障結(jié)果會(huì)遠(yuǎn)好于通俗低炭鋼板，但實(shí)際并非如此，在制造體積較大的磁屏障室時(shí)，因?yàn)楣桎摗⒉Ｄ辖鸬雀邔?dǎo)磁資料的可焊性很差，而且無(wú)法在焊接后進(jìn)行熱處置，所以只能平鋪或搭接，所以整個(gè)磁屏障室的磁通路就被很多空氣隙（導(dǎo)磁率約為1）所間隔，高導(dǎo)磁材料的功能得不到充分應(yīng)用。而低炭鋼具有*的可焊性，依照準(zhǔn)確的施工工藝施工，在厚度一樣的前提下，低炭鋼板的屏障結(jié)果反而優(yōu)于硅鋼板或玻莫合金板。

　　改善屏障體的導(dǎo)電性如在屏障體上復(fù)合鋁（銅）板、門邊加裝梳狀導(dǎo)電條等，對(duì)于低頻電磁屏障是*無(wú)效的。門邊加裝梳狀導(dǎo)電條反而會(huì)增大磁阻，降低屏障結(jié)果。低頻電磁屏障對(duì)屏障體的厚度有要求的。